{"id":48174,"date":"2025-07-18T08:26:07","date_gmt":"2025-07-18T08:26:07","guid":{"rendered":"https:\/\/tubefurnacecn.com\/?p=48174"},"modified":"2025-07-18T08:26:09","modified_gmt":"2025-07-18T08:26:09","slug":"cvd-pecvd-tube-furnace","status":"publish","type":"post","link":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/cvd-pecvd-tube-furnace\/","title":{"rendered":"CVD\/PECVD-Rohrofen"},"content":{"rendered":"<p><strong>CVD\/PECVD-Rohrofen<\/strong><\/p>\n\n\n\n<p>Dieser fortschrittliche CVD\/PECVD-Rohrofen nutzt die plasmaunterst\u00fctzte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) zur Abscheidung hochwertiger D\u00fcnnschichten auf verschiedenen Substraten wie Metallen, Halbleitern und Isolatoren. Er eignet sich ideal f\u00fcr Anwendungen in der Mikroelektronik, Optoelektronik, Flachbildschirme und Energiespeicherung und kombiniert Pr\u00e4zisionsabscheidungsm\u00f6glichkeiten mit Zuverl\u00e4ssigkeit in Industriequalit\u00e4t.<\/p>\n\n\n\n<p><strong>Wesentliche Merkmale<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li><strong>Ablagerungsleistung<\/strong>:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>RF-Glimmentladungs-Technologie erreicht Abscheidungsraten von bis zu 10\u00c5\/s<\/li>\n\n\n\n<li>Die fortschrittliche Mehrpunkt-RF-Zuf\u00fchrung gew\u00e4hrleistet die Gleichm\u00e4\u00dfigkeit der Dicke des 8% (3\u03c3)<\/li>\n\n\n\n<li>Chargenkonsistenz in Halbleiterqualit\u00e4t (&lt;2% Substrat-zu-Substrat-Abweichung)<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li><strong>Thermischer Entwurf<\/strong>:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Maximale Temperatur: 1200\u00b0C (FeCrAl-Heizdr\u00e4hte)<\/li>\n\n\n\n<li>Programmierbare 50-Segment-PID-Regelung (\u00b11\u00b0C Genauigkeit)<\/li>\n\n\n\n<li>Doppelwandiges luftgek\u00fchltes Geh\u00e4use (Oberfl\u00e4chentemperatur &lt;50\u00b0C)<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li><strong>Prozesskontrolle<\/strong>:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Spezialisiertes Gasverteilungssystem f\u00fcr die gleichm\u00e4\u00dfige Zufuhr von Ausgangsstoffen<\/li>\n\n\n\n<li>\u00dcberwachung der Plasmastabilit\u00e4t mit automatischer Impedanzanpassung<\/li>\n\n\n\n<li>Kompatibel mit reaktiven Gasen (SiH\u2084, NH\u2083, usw.) und inerten Umgebungen<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li><strong>Sicherheit und Langlebigkeit<\/strong>:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Doppeldichtungsflanschsystem aus Edelstahl 304<\/li>\n\n\n\n<li>Einstellbare Flanschst\u00fctzen f\u00fcr eine l\u00e4ngere Lebensdauer des Quarzrohrs<\/li>\n\n\n\n<li>\u00dcbertemperaturschutz und Erkennung von elektrischen Leckagen<\/li>\n\n\n\n<li>Not-Aus-Funktionalit\u00e4t<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li><strong>Vakuum-Leistung<\/strong>:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Grundvakuum: -0,1 MPa (7\u00d710-\u2074 Pa mit Molekularpumpenoption)<\/li>\n\n\n\n<li>Trockenes Vakuumsystem verhindert Prozessverschmutzung<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p><strong>Standard-Konfiguration<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Hochreines Quarz-Ofenrohr (1 St\u00fcck)<\/li>\n\n\n\n<li>RF-Plasmagenerator (13,56 MHz)<\/li>\n\n\n\n<li>Vakuum-Dichtungsflansch-Baugruppe (1 Satz)<\/li>\n\n\n\n<li>Vakuum-Manometer (1 St\u00fcck)<\/li>\n\n\n\n<li>Drehschieber-Vakuumpumpe (1 Satz)<\/li>\n\n\n\n<li>Endstopfen (2 St\u00fcck)<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p><strong>Optionale Upgrades<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Fortschrittliches Gasregelsystem:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Mehrkanalige Massendurchflussregler (MFC)<\/li>\n\n\n\n<li>Gasmischpult mit Echtzeit\u00fcberwachung<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li>Verbesserte Vakuumverpackung:\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Turbo-Molekularpumpwerk<\/li>\n\n\n\n<li>Kryogenes Abfallsystem<\/li>\n<\/ul>\n<\/li>\n\n\n\n<li>7-Zoll-HD-Touchscreen-Schnittstelle<\/li>\n\n\n\n<li>Schleusenkammer f\u00fcr schnellen Substratwechsel<\/li>\n\n\n\n<li>Optisches In-situ-\u00dcberwachungssystem<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p><strong>Typische Anwendungen<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Abscheidung von Siliziumnitrid\/Oxid<\/li>\n\n\n\n<li>Amorphe Silizium-D\u00fcnnschichten<\/li>\n\n\n\n<li>Diamant\u00e4hnliche Kohlenstoffbeschichtungen (DLC)<\/li>\n\n\n\n<li>Herstellung von Fotovoltaikzellen<\/li>\n\n\n\n<li>Verkapselung von MEMS-Ger\u00e4ten<\/li>\n\n\n\n<li>Herstellung flexibler Elektronik<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p><strong>Technische Vorteile<\/strong><\/p>\n\n\n\n<ul class=\"wp-block-list\">\n<li>Plasmaunterst\u00fctzte Abscheidung f\u00fcr die Verarbeitung bei niedrigen Temperaturen<\/li>\n\n\n\n<li>Pr\u00e4zise Dickenkontrolle (\u00b12% Chargenkonsistenz)<\/li>\n\n\n\n<li>Modularer Aufbau f\u00fcr einfache Prozess-Upgrades<\/li>\n\n\n\n<li>CE-zertifizierte Sicherheitskonformit\u00e4t<\/li>\n\n\n\n<li>Industrietaugliche Konstruktion f\u00fcr 24\/7-Betrieb<\/li>\n<\/ul>\n\n\n\n<p>Dieses CVD\/PECVD-System bietet Forschern und Herstellern eine vielseitige Plattform f\u00fcr die hochpr\u00e4zise Abscheidung von D\u00fcnnschichten. Die Kombination aus schnellen Abscheideraten, hervorragender Gleichm\u00e4\u00dfigkeit und Prozessstabilit\u00e4t macht sie ideal f\u00fcr Forschung und Entwicklung sowie f\u00fcr die Pilotproduktion.<\/p>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>CVD\/PECVD Tube Furnace This advanced CVD\/PECVD tube furnace utilizes plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) technology to deposit high-quality thin films on various substrates including metals, semiconductors, and insulators. Ideal for microelectronics, optoelectronics, flat-panel displays, and energy storage applications, it combines precision deposition capabilities with industrial-grade reliability. Key Features Standard Configuration Optional Upgrades Typical Applications Technical &#8230; <a title=\"CVD\/PECVD-Rohrofen\" class=\"read-more\" href=\"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/cvd-pecvd-tube-furnace\/\" aria-label=\"Mehr Informationen \u00fcber CVD\/PECVD Tube Furnace\">Weiterlesen &#8230;<\/a><\/p>","protected":false},"author":1,"featured_media":0,"comment_status":"closed","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"footnotes":""},"categories":[8],"tags":[],"class_list":["post-48174","post","type-post","status-publish","format-standard","hentry","category-tube-furnace"],"_links":{"self":[{"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/48174","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/users\/1"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=48174"}],"version-history":[{"count":1,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/48174\/revisions"}],"predecessor-version":[{"id":48175,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/48174\/revisions\/48175"}],"wp:attachment":[{"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=48174"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=48174"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"http:\/\/www.tubefurnacecn.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=48174"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}